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Grupo de Electrónica y Semiconductores

Presentación

El Grupo de Electrónica y Semiconductores de la U.A.M. es uno de los principales centros españoles para la formación de especialistas en tecnología y diseño de circuitos integrados.

El Programa Nacional de Microelectrónica concibió una serie de acciones especiales encaminadas a resolver la falta de tradición y experiencia en Microelectrónica en nuestro país. Dentro de estas acciones especiales destaca la creación de un centro piloto para la formación de técnicos a nivel medio y superior de especialistas en tecnología y diseño de circuitos integrados de silicio.

El Laboratorio de Microelectrónica está implantado sobre un área de unos 600 m2, consta de una sala blanca de unos 160 m2 de clase 10.000 con zonas para procesos críticos de clase 100. El laboratorio está dotado de los medios tecnológicos avanzados para la concepción y fabricación de circuitos integrados a nivel oblea piloto y supone una inversión acumulada superior a los 500 millones de pesetas.

La concepción de las instalaciones comenzó a mediados de 1989 quedando finalizadas a finales de 1993 como estaba previsto. Después de un año de rodaje de las instalaciones puede considerarse apunto para abordar los objetivos con que inicialmente fue concebido.

El Laboratorio de Microelectrónica ha sido concebido con una estructura flexible, que permite el acceso tanto de universitarios y estudiantes de Escuelas de Ingenieros de Grado Medio como para formación continua de industriales.

Objetivos

Dentro del objetivo fundamental de formación de técnicos y especialistas en Tecnología y Diseño de Circuitos Integrados se contemplan cuatro niveles bien diferenciados:

  1. Cursos destinados a la formación de Técnicos de Grado Medio como especialistas de procesos. Se trata de una enseñanza destinada al aprendizaje de los diferentes procesos tecnológicos y manejo de sistemas utilizados en la fabricación de circuitos integrados. Este tipo de enseñanza estaría destinada a estudiantes de formación profesional de 2° Grado o Escuelas de Técnicos de Grado Medio.
  2. Cursos destinados a Titulados Universitarios, fundamentalmente estudiantes de los últimos cursos de Física o Ingeniería Electrónica que por su formación básica están adecuadamente preparados para asimilar el proceso completo de los circuitos integrados desde su concepción y diseño hasta su implantación física en una oblea de silicio.
  3. Un nivel más ambicioso y por tanto más atractivo es tratar de organizar conjuntamente con otras Instituciones tanto públicas como privadas cursos de formación más prolongada, a nivel "master", en el que los posgraduados en Ingeniería Electrónica y Físicas pudieran realizar un proyecto completo, desde la concepción electrónica de algún circuito elemental, simulación física de procesos, simulación eléctrica y finalmente la realización física y caracterización de los circuitos realizados.
  4. Con un enfoque diferente podrían ofrecerse cursos de formación continua dirigidos a industriales que quisieran renovar su bagaje de conocimientos e incorporarse a las nuevas tecnologías.

Finalmente, y aún cuando este no es uno de los objetivos fundamentales de este tipo de centros, es habitual ofrecer los servicios tecnológicos de apoyo a la investigación a Centros Públicos y Privados de Investigación a fin de rentabilizar al máximo las instalaciones.

Líneas de Investigación

A partir del grupo de Semiconductores, formado a finales de la década de los 70, se creó en 1990 el Laboratorio de Microelectrónica de la UAM.

En la actualidad, el Laboratorio de Microelectrónica está integrado por personal de los departamentos de Física Aplicada de la Universidad Autónoma de Madrid

  • Crecimiento epitaxial de semiconductores compuestos III-V para aplicaciones optoelectrónicas
  • Recubrimientos dieléctricos, antirreflectantes y endurecedores: SiO2, Si3N4, SiON, SiC, SiCN, etc.
  • Semiconductores amorfos: Si y SiC
  • Implantación iónica: dopaje y modificación de la composición superficial
  • Guías de onda integradas
  • Diseño basado en microprocesadores

Proyectos en ejecución

  • "Nuevas Tecnologías para el desarrollo de plataformas sensoras y biosensoras avanzadas. AVANSENS".
  • "Sintesis de nanohilos de ZnO y Ga(As,N) para detección de alta sensibilidad de los rangos de UV e IR"

Infraestructuras

Las instalaciones de que se dispone pueden agruparse en tres grandes áreas:

Concepción y diseño de circuitos integrados:

  • Sistema informático compuesto por un ordenador de 32 bits con un terminal gráfico, diversos microordenadores conectados en red, plotters y scanners.
  • Software para:
    • Simulación de procesos
    • Simulación eléctrica
    • Diseño de máscaras
  • Sistema de litografía por haz de electrones para fabricación de máscaras (Ebeam)

Fabricación de circuitos integrados:

  • Los diferentes sistemas de procesado tecnológico están ubicados en una Sala Blanca de clase 10.000 con zonas de clase 100 para procesos críticos.
  • Batería de hornos para oxidación del silicio y tratamientos térmicos en atmósfera controlada.
  • Horno de lámparas para tratamientos térmicos rápidos y depósito de silicio policristalino (RTA).
  • Implantador iónico de hasta 200 KeV. Ir a página de Mantenimiento del Implantador
  • Sistema de tratamientos térmicos rápidos por haz de electrones.
  • Tratamientos térmicos ultrarrápidos basados en láser de excímeros pulsado.
  • Alineador de máscaras, medidor de espesores y microscopios.
  • Sistema de deposición química en fase de vapor asistido por plasma (PECVD) de resonancia electrónica ciclotrón (ECR) para depósito de aislantes (SiO2, Si3N4) y semiconductores (Si, SiC, ...).
  • Sistema de sputtering para metalización.
  • Evaporadoras de metales y equipos de microsoldadura.
  • Equipo de grabado por ataque en plasma de iones reactivos (RIE).
  • Sistema de crecimiento epitaxial por haces químicos (CBE) para GaAs.

Caracterización eléctrica y física

  • Microscopio electrónico de barrido de emisión de campo (SEM).
  • Sistemas de caracterización eléctrica y estación de puntas.
  • Medida de perfiles de concentración (spreading resistance) y profundidades de uniones.
  • Elipsómetro espectroscópico.
  • Caracterización eléctrica remota por red (proyecto RETWINE).

Personal del grupo

Personal Docente e Investigador

Personal de Administración y Servicios

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