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Instrumentación y Equipamiento

Imagen de equipo óptico

Equipos y técnicas experimentales disponibles 

  • Calorimetría diferencial de barrido
  • Circuito DDP y osciloscopio digital, medidas de ciclos de histéresis
  • Diseño y fabricación de detectores UV
  • Dos espectrómetros de resonancia paramagnética electrónica de banda X con control de temperatura desde 5 K hasta 300ºC
  • Dos espectrómetros Raman: con contaje de fotones y detectores de GaAs, Ge y cámara CCD Criostatos (1.5-300 K)
  • Equipo de disolución anódica para preparación de Si poroso
  • Equipo de espectroscopía de desorción térmica (TDS)
  • Equipos de análisis Térmico Diferencial
  • Equipos de crecimiento Czochralski, Bridgman y Epitaxia en fase líquida
  • Espectrometría de masas
  • Espectrómetro Brillouin (Laser Ar+ Spectra Physics / Criostato Oxford)
  • Espectrómetro de "up-conversion" de luminiscencia con resolución temporal de femtosegundos
  • Espectroscopía de absorción óptica, fotoluminiscencia y electroluminiscencia
  • Espectroscopía de neutrones
  • Espectroscopía de Rayos X
  • Espectroscopía fotoacústica pulsada
  • Fabricación y caracterización de guías de onda por difusión de Zn
  • Fotoluminiscencia excitada en UV y VIS
  • Imán superconductor (13 T)
  • Laser Nd:YAG "mode-locked" + laser de colorante con longitud de cavidad ajustada (Spectra Physics)
  • Laser Ti:Zafiro "mode-locked" (Tsunami, Spectra Physics)
  • Luminiscencia en guías de onda
  • Luminiscencia Visible - IR (CW y resolución temporal)
  • Medidas eléctricas
  • Monitorización de la columna de ozono estratosférico
  • Oscilador paramétrico (emisión 450-2000 nm) (MOPO 730-10, Spectra Physics)
  • Reactor para la preparación de hidruros metálicos
  • Reactores para crecimiento de dicalcogenuros metálicos en película fina
  • Sistema de evaporación con cañón electrónico
  • Sistema de grabado y lectura de hologramas de volumen
  • Sistema de medida de ganancia laser en monocristales
  • Sistema de medida de mezcla de ondas en el visible
  • Sistema de medida holográfico para efecto fotorrefractivo entre 457 nm y 1.33mm (laser de Ar 15w, Ti:Zafiro 1.5w, Nd:YLF 200mw)
  • Sistema de medidas de birrefrigencia de alta resolución
  • Sistema Hp de medidas eléctricas (20 Hz-1 MHz)
  • Sistemas de caracterización de guías ópticas (acoplamiento por prisma y por el borde, medida de pérdidas)
  • Sistemas de evaporación térmica y flash para la preparación de películas delgadas y multicapas
  • Sistemas de fabricación de guías de onda ópticas por difusión e intercambio protónico
  • Sistemas de medida de coeficientes ópticos no-lineales por generación de 2º y 3º armónicos (laser Nd:YAG y Nd:YLF)
  • Sistemas de medidas de coeficientes electroópticos (compensador y Mach Zehnder)
  • Sistemas de presiones uniaxiales (0-1 kbar) e hidrostáticas (0-10 kbar)

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