Un estudio concluye que el filtro de grafeno de las mascarillas Shengquan Co es extremadamente robusto y no se degrada

El  grupo de investigación Nanomater Lab. liderado por Félix Zamora, catedrático del Departamento de Química Inorgánica de la Universidad Autónoma de Madrid (UAM) y el Condensed Matter Physics Center (IFIMAC), ha realizado diferentes pruebas de caracterización, y otros estudios experimentales, para verificar la potencial degradación de mascarillas con grafeno del fabricante Shengquan Co. Estas pruebas se han realizado en condiciones de trabajo extremas: 8 horas, 50º C, 100% humedad relativa y una energía aplicada 100x106 Julios (5 veces superior a test que se realizan para verificar la norma FFP3).

Las conclusiones del estudio indican que el filtro de grafeno de estas máscaras es extremadamente robusto, no detectándose degradación del mismo. Se han llevado a cabo estudios espectroscópicos mediante el uso de técnicas Raman de las fibras de los filtros y también estudios morfológicos (SEM y microscopía óptica de alta resolución) que confirman estas conclusiones. Además, se ha verificado mediante un conjunto de técnicas (DLS, FTIR, UV-vis, AFM…) que no se liberan partículas (tamaño nano-métrico o micro-métrico), ni otras especies moleculares.

Basándose en estas observaciones, los estudios realizados por este equipo sugieren que no es esperable toxicidad por inhalación proveniente de estas mascarillas.