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Español

Unidad de Microscopía

Electron Beam Lithography eLINE-PLUS de Raith GmbH

Equipo de emisión de campo preparado para el diseño y realización de nanolitografía .

  • Ultra alta resolución, Litografía por haz de electrones, Imágenes y Nanoingenieria
  • Resolución de1 nm en XY a cualquier distancia de trabajo y tamaño de campo de escritura
  • El equipo incorpora un detector de SE, detectores SE y BSE inlens, así como un analizador EDX, Quantax EDS, modelo XFlash 6I30 de Bruker.

Este equipamiento es parte del proyecto de I+D+i ayuda EQC2021-007091-P, financiado por MCIN/AEI/10.13039/501100011033 y por la Unión Europea NextGenerationEU/PRTR.